米国特許情報 | 欧州特許情報 | 国際公開(PCT)情報 | Google の米国特許検索
 
     特許分類
A 農業
B 衣類
C 家具
D 医学
E スポ−ツ;娯楽
F 加工処理操作
G 机上付属具
H 装飾
I 車両
J 包装;運搬
L 化学;冶金
M 繊維;紙;印刷
N 固定構造物
O 機械工学
P 武器
Q 照明
R 測定; 光学
S 写真;映画
T 計算機;電気通信
U 核技術
V 電気素子
W 発電
X 楽器;音響


  ホーム -> 電気素子 -> 株式会社日立製作所

発明の名称 電子線描画装置
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開平6−104162
公開日 平成6年(1994)4月15日
出願番号 特願平4−249486
出願日 平成4年(1992)9月18日
代理人 【弁理士】
【氏名又は名称】小川 勝男
発明者 水野 一亥
要約 目的
試料の位置変化量を時間を変数とした多項式で近似し、電子ビームを偏向する手段にフィードバックすることによって、試料面上へのパターン描画および描画パターンの自己測定を高速・高精度に行うことを目的とする。

構成
試料搬送装置(2)は、試料搬送終了後、終了信号をタイマ回路(10)に出力する。この信号によりタイマ回路(10)が起動される。演算回路(11)では、タイマ回路(10)から出力される各時間毎の試料の位置変化量を演算する。この演算結果は、加算回路(12)において、パターン発生回路(13)からの偏向データに加算される。この加算データにより偏向回路(14)で偏向器(9)を駆動して、電子ビーム(8)を偏向する。この方式により、試料の位置変化量に起因する誤差を排除することが可能となる。
特許請求の範囲
【請求項1】電子ビームを発生する手段、電子ビームを試料面上の所望の位置へ偏向する手段を有する電子光学鏡体と、試料を固定する手段、前記試料を移動する手段、および試料の移動位置を測定する手段を有する試料台移動装置と、試料を試料台移動装置へ搬送する手段を有する試料搬送装置から構成される電子線描画装置において、試料台移動装置上の試料の位置変化量を時間を変数とした多項式で近似し、電子ビームを偏向する手段にフィードバックすることを特徴とした電子線描画装置。
発明の詳細な説明
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子線描画装置において、試料面上へのパターン描画および描画パターンの自己測定を高速・高精度に行うことに関する。
【0002】
【従来の技術】従来技術を図1を用いて説明する。試料(1)は、試料搬送装置(2)内に装着される。次に、試料搬送装置(2)の真空排気動作終了後、試料搬送装置(2)により試料台(3)上に搬送され、固定される。試料台(3)の位置は、レーザ測長器(4)により測定される。本測定結果から得られる試料台位置を基準として、試料室(5)上に設置された電子光学鏡体(6)に内蔵された電子銃(7)から発生させた電子ビーム(8)を偏向器(9)により高精度に位置決めすることにより、試料(1)上へのパターン描画を行う。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術によるパターン描画においては、図2に示すように、試料(1)が温度変化した場合、図3に示すように、変形が発生して、試料(1)と試料台(3)の位置関係が変化する。これに対して、試料(1)上へのパターン描画は、試料台位置を基準として行うため、この位置関係の変化が、電子ビーム(8)の試料(1)への高精度位置決めに対して、悪影響を与えるという問題があった。
【0004】また、本問題を回避するために、試料(1)の温度変化が無くなるまで待った場合、パターン描画に対する無駄時間となり、スループットを低下させるという問題があった。
【0005】本発明は、試料(1)の温度変化による変形をリアル・タイムで補正することにより、電子線(8)の試料(1)への高精度位置決めと描画時間の短縮を達成することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、試料台上の試料の温度変化による位置変化量を時間を変数とした多項式で近似し、電子線を偏向する手段にフィードバックする機能を追加したものである。
【0007】
【作用】そのようにすることにより描画の無駄な待ち時間がなくなるので、描画時間の短縮化を図ることができる。
【0008】
【実施例】以下、本発明の一実施例を説明する。図4に、本発明の詳細を示す。試料搬送装置(2)は、試料搬送終了後、終了信号をタイマ回路(10)に出力する。この信号によりタイマ回路(10)が起動される。演算回路(11)では、タイマ回路(10)から出力される各時間毎の試料の位置変化量を演算する。この演算結果は、加算回路(12)において、パターン発生回路(13)からの偏向データに加算される。この加算データにより偏向回路(14)で偏向器(9)を駆動して、電子ビーム(8)を偏向する。この方式により、試料の位置変化量に起因する誤差を排除することが可能となる。
【0009】演算回路(11)においては、試料の位置変化量を時間を変数とした多項式で近似する。近似する手段としては、試料の時間的温度変化を直接測定し、試料の熱膨張係数を乗算することにより、試料の位置変化を演算する。この結果から、試料の位置変化量の時間を変数とした多項式を作成する。
【0010】また、試料の時間的温度変化を直接測定できない場合は、測定用マークの付いた試料を試料台に搬送して、測定用マークの位置を各サンプリング時間毎に自己測定する。この測定結果から、試料の位置変化量の時間を変数とした多項式を作成する。
【0011】
【発明の効果】本発明によれば、安定化のための待ち時間無しで、試料の位置変化に起因する誤差を排除することが可能となるため、試料上への電子ビームの高精度位置決めを行うことができる。これによって、描画パターンの位置精度とスループットを向上させることが可能となる。




 

 


     NEWS
会社検索順位 特許の出願数の順位が発表

URL変更
平成6年
平成7年
平成8年
平成9年
平成10年
平成11年
平成12年
平成13年


 
   お問い合わせ info@patentjp.com patentjp.com   Copyright 2007-2013