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発明の名称 真空処理装置
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開平6−97064
公開日 平成6年(1994)4月8日
出願番号 特願平4−247634
出願日 平成4年(1992)9月17日
代理人 【弁理士】
【氏名又は名称】高田 幸彦
発明者 木原 秀樹 / 坪根 恒彦
要約 目的
真空処理装置において、ガス導入装置に起因するフレキシブルチューブの廃止が可能で、クリーンなガスを放電装置に導入し、保守作業時での効率が図れる真空処理装置を提供することにある。

構成
ガス導入装置が固定部に接続され、可動部と固定部がセットされた状態で、初めてガスラインの通路が形成できるようにしたものである。
特許請求の範囲
【請求項1】処理室、ガス導入装置、処理室用排気装置、可動機構を有する放電装置を備えた真空処理装置において、前記ガス導入装置を固定部である前記処理室側に接続し、該処理室に前記放電装置をセットしてガスラインの通路を形成したことを特徴とする真空処理装置。
発明の詳細な説明
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空処理装置に係り、特にアッシング装置に好適な真空処理装置である。
【0002】
【従来の技術】従来の真空処理装置では例えば図3に示す様に、処理室11の上に放電装置9を配置し、ガス導入装置10は放電装置9に接続されている。ここで、ガス導入装置10はガス元バルブ12を開くことにより、反応ガスを放電装置9内に導入し、放電を起こさせることにより、ガスを活性ガスに変換させ処理室11内に活性ガスを導入し、処理室11内に設置してあるウェハーの必要な処理をする。処理室11内は排気装置により真空排気されているというシステムになっている。
【0003】処理室11の保守作業時は、処理室11の上に配置されてある放電装置9を可動させる必要がある為、可動装置13が放電装置9に接続されてある。前記の様に放電装置9は可動装置13によって可動する為、放電装置9に接続されてあるガス導入装置10は、放電装置9を可動させる時にも放電装置9との切り離しをさせない様に、放電装置9にフレキシブルチューブ14を利用して接続してある。フレキシブルチューブ14を利用していない場合は、固定配管で放電装置9に接続されてあるが、放電装置9を可動装置13によって可動させる時は、可動させる前に放電装置9とガス導入装置10とを切り離すことを必要とする真空処理装置である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、可動機構を有する放電装置にガス導入装置がフレキシブルチューブもしくは、固定配管にて放電装置と接続されている。フレキシブルチューブで接続されている場合は、放電装置が可動するたびにフレキシブルチューブが伸縮される為、真空処理装置においてのクリーン化としての問題が残っており、固定配管で接続されている場合は、放電装置を可動させる必要がある時には、可動させる前にガス導入装置と放電装置とを切り離す必要がある為、保守作業時での効率が悪いという問題が残っていた。
【0005】本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去すべく、ガス導入装置に起因するフレキシブルチューブの廃止が可能で、クリーンなガスを放電装置に導入し、保守作業時での効率が図れる真空処理装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を解決するために、ガス導入装置を、可動機構を有する放電装置から固定部である処理室側に接続部を変更し、かつガス吹き出し部は放電装置に設けるために処理室の上へ放電装置がセットされた状態で、初めてガスラインの通路が全通になるようにしたものである。
【0007】
【作用】上記の様な構成にすることにより、ガス導入装置と可動機構を有する放電装置との接続にフレキシブルチューブを廃止することができる為、クリーンなガスを放電装置内に導入させることが可能となり、また処理室の保守作業時にもガス導入装置と放電装置との切り離しを必要としない為、保守作業時での効率が図れるようになる。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1により説明する。図1は本発明の一実施例を示すものである。処理室1は試料台8上に設置してあるウェハーを処理する部屋で、処理室1内は排気装置4により真空排気されている。ガス導入装置3は処理室1側の加工フランジ5に接続されてあり、加工フランジ5はガスラインの通路を形成するためにU字形にガスラインの通路が加工されてある。ガス導入装置3は加工フランジ5のU字形に加工されたガスの通路に対して垂直にガスラインの通路が形成できる様に接続される。放電装置2にもガス吹き出し部7までのガスラインをL字形に加工し、加工フランジ5のU字形に加工されてあるガスラインのU字形部とガスの通路が垂直に形成できる様にセットする。上記より、ガス導入装置3と処理室1側の加工フランジ5が接続されてある為、放電装置2を可動させる場合においてもガス導入装置3を放電装置2と切り離す必要がなくなり、放電装置2が処理室1上にセットされた時に初めてガスラインの通路が全通となる構造になる。
【0009】前記にもあるが、放電装置2は可動機構をもつため、加工フランジ5と放電装置2との接触部にはシールできる構造とする。尚、放電装置2は処理室1上にセットする時に加工フランジ5とガスラインの通路を垂直に形成させなければいけない為、放電装置5に接続されてある可動装置にストッパー等を設け、放電装置2を処理室1上にセットする時に、安易にガスラインの通路が垂直に形成できるようにする。ガスを導入する際は、放電装置2が処理室1上にセットされてあるのを確認し、ガス元バルブ6を開き、ガスは加工フランジ5のU字形部を通り、放電装置2のL字形に加工されてある通路を通りガス吹き出し口7より放電装置2内にガスが導入され、放電を起こし、試料台8上に設置されてあるウェハーの、例えば、アッシング処理を行う構造とする。
【0010】
【発明の効果】本発明によれば、ガス導入装置を全て固定配管にすることができ、保守作業時にもガス導入装置の脱着を必要としない為、作業効率の向上と真空処理装置におけるクリーン化、等の効果があげられる。




 

 


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