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発明の名称 ポジ型感光性レジスト組成物及びそれを用いた銅含有層のパターン形成方法
発行国 日本国特許庁(JP)
公報種別 公開特許公報(A)
公開番号 特開平6−317907
公開日 平成6年(1994)11月15日
出願番号 特願平6−31351
出願日 平成6年(1994)3月1日
代理人 【弁理士】
【氏名又は名称】合田 潔 (外5名)
発明者 バートン ジェッセ カーペンター ジュニア / マイケル ジョージ マクマスター / ジョゼフ ラトッレ / ロガン ロイド シンプソン
要約 目的
銅含有基体上の露光領域において現像されえないレジストを形成することがない感光性レジスト組成物及びその用途を提供する。

構成
酸触媒存在下で反応する基を有するフィルム形成反応性ポリマー、例えば、t−ブチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸のターポリマーと、フィルム形成反応性ポリマーの酸触媒作用を生成するための、放射光に露光されることによって酸を発生するヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤と、クエン酸の如き多官能基有機カルボン酸と、を含有することを特徴とする組成物。
特許請求の範囲
【請求項1】 酸触媒作用により反応する基を含むフィルム形成反応性ポリマーと、フィルム形成反応性ポリマーの酸触媒作用を生成するための、放射光に露光されることによって酸を発生するヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤と、多官能基有機カルボン酸と、を含有することを特徴とするポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項2】 前記酸の含有量が、約0.1〜約5重量%であることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項3】 前記酸の含有量が、約1〜約3重量%であることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項4】 前記ポリマーの含有量が、レジストの固形分の約99〜約80重量%であり、前記開始剤又は発生剤の含有量が、約1〜約20重量%であることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項5】 前記開始剤がヨードニウム塩であることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項6】 前記開始剤又は発生剤が放射光の露光下で、トリフル酸を生成することを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項7】 前記開始剤又は発生剤が、ジフェニルヨードニウムトリフレート;ジ(t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフレート;フタルイミドトリフルレート及びこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項8】 さらに、増感剤を含有することを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項9】 前記増感剤が、1,8−ジメトキシ−9,10−ビス(フェニルエチニル)アントラセンであることを特徴とする請求項8記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項10】 前記フィルム形成反応性ポリマーが、以下の重合可能な単位を含むことを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物:第一のモノマーは、ポリマー主鎖に酸感受性側鎖として寄与するものであり、第一のモノマーは、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート及びこれらの組み合わせからなる群から選択される;第二のモノマーは、アルキルメタクリレート類、アルキルアクリレート類及びこれらの組み合わせからなる群から選択される;第三のモノマーは、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【請求項11】 前記フィルム形成反応性ポリマーが、エチルアクリレート/メチルメタクリレート/t−ブチルアクリレート/アクリル酸のテトラポリマーであることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項12】 前記フィルム形成反応性ポリマーが、t−ブチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸のターポリマーであることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項13】 酸触媒作用により反応する基を含むフィルム形成反応性ポリマーと、フィルム形成反応性ポリマーの酸触媒作用を生成するための、放射光に露光されることによって酸を発生するヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤と、多官能基有機カルボン酸と、を含有することを特徴とする前記ポジ型感光性レジスト組成物で銅含有層を被覆すること、該レジスト組成物の選択された領域を放射光で露光すること、溶媒中で、露光された領域を溶解することによって該組成物を現像すること、それによって、銅含有層の領域を露光すること、露光されている銅含有層の領域ををエッチングすること、及びその後、非露光感光性レジストを剥離によって除去すること、を含むことを特徴とする銅含有層のパターン形成方法。
【請求項14】 前記層上のポジ型感光性レジスト組成物の膜厚が、乾燥時において約5〜約15milであることを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項15】 前記剥離が、塩基性水溶液を用いて行われることを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項16】 前記酸の含有量が約0.1〜約5重量%であることを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項17】 前記酸の含有量が約1〜約3重量%であることを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項18】 前記ポリマーの含有量が、レジストの固形分の約99〜約80重量%であり、前記開始剤の含有量が、約1〜約20重量%であることを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項19】 前記開始剤がヨードニウム塩であることを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項20】 前記開始剤が放射光の露光下で、トリフル酸を生成することを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項21】 前記開始剤が、ジフェニルヨードニウムトリフレート;ジ(t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフレート;フタルイミドトリフレート及びこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項22】 さらに、増感剤を含有することを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項23】 前記増感剤が、1,8−ジメトキシ 9,10−ビス(フェニルエチル)アントラセンであることを特徴とする請求項22記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項24】 前記フィルム形成反応性ポリマーが、以下の重合可能な単位を含むことを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法:第一のモノマーは、ポリマー主鎖に酸感受性側鎖を付与するものであり、第一のモノマーは、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート及びこれらの組み合わせからなる群から選択される;第二のモノマーは、アルキルメタクリレート類、アルキルアクリレート類及びこれらの組み合わせからなる群から選択される;第三のモノマーは、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【請求項25】 前記フィルム形成反応性ポリマーが、エチルアクリレート/メチルメタクリレート/t−ブチルアクリレート/アクリル酸のテトラポリマーであることを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項26】 前記フィルム形成反応性ポリマーが、t−ブチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸のターポリマーであることを特徴とする請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法。
【請求項27】 前記酸がクエン酸であることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
【請求項28】 前記酸が蓚酸であることを特徴とする請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物。
発明の詳細な説明
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般的には、レジスト組成物に使用される、ポリマーとヨードニウムフォトアシッド発生剤又は非イオン性トリフル酸(triflic acid)発生剤との混合物に関し、詳しくは、酸触媒作用によるデプロテクションメカニズムによって機能する印刷されたサーキットボードの製造に用いられる改良された感光性レジスト組成物に関する。
【0002】さらに詳細には、多官能基有機カルボンは本発明の組成物中に使用され、現像されえないレジストを完全に取り除かないまでも、それを実質的に減少させ、レジストの剥離性を向上させる。
【0003】
【従来の技術】酸触媒作用による連鎖反応(例えば、重合、解重合、側鎖開裂等)を基にする化学的に増幅されたレジストシステムの設計は、精密リトグラフにおける高感度レジストシステムに到る実行可能なルートとして認識されている。そのようなシステムは、例えば、H.イトウ、C.G.ウィルソンらの「エレクトロニクスにおけるポリマー(Polymers In Electronics )」T.デビットソン編集、ワシントン D.C.におけるACS シンポジウム シリーズ242、アメリカンケミカル ソサエティー(American Chemical Society 、1984年)第11頁に記載されている。これらのシステムは、化学的増幅を伴う高感度を提供するが、フリーラジカルを基にする欠点を回避する。このタイプのシステムは、例えば、半導体への適用においてサブミクロンの如き高解像度の能力を有する。それらは、酸素の影響を受けないため、液状で薄いフィルムとして適用しうる。
【0004】酸触媒作用によるデプロテクションメカニズムによって機能するフォトレジストは、ポジ型に機能するポリマーを利用する。即ち、露光されないレジストは現像剤中で不溶であり、しかしながら、露光条件下では、可溶性の物質に変換される。化学的には、これは、酸触媒作用の反応である熱的開裂によって、側基の化学的性質を変化させることによって達成される。ヨードニウム塩等の化合物は、光又は熱誘導分解により酸を発生する。これらの物質は典型的には、特有の染料によって、所望の波長に対して増感されている。
【0005】しかしながら、銅表面上でポジ型の挙動を示すフォトレジスト中でヨードニウム塩及び非イオン性トリフル酸発生剤を使用することは、銅表面の露光領域に、レジストの現像されえない層を形成するため非実用的である。さらに、フォトレジストは、しばしば、水酸化ナトリウムの如き標準的な塩基性水溶液で剥離しにくい。これらの問題を解決する試みとして、非電子化クローム又はニッケル処理による銅の不活性化方法、又は、硫酸塩の如き代りのフォトアシッド発生剤の使用等が挙げられる。あいにく、銅不活性化方法は、付加的なプロセスのステップを伴い、さらに、しばしば毒性の物質を利用するため、非現実的である。同様に、硫酸塩類は、可視光に対する増感が困難であり、このため写真スピードが低いことから、良好に実行されなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】前記の如く、本発明の目的は、ヨードニウム開始剤又は非イオン性トリフル酸発生剤を含有するポジ型感光性レジスト組成物であって、銅表面の露光領域において現像されえないレジストを形成するという前記の問題点に患わされないレジスト組成物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によって、多官能基有機カルボン酸をポジ型挙動を示すフォトレジスト配合物に添加剤として使用することにより、それらを銅合金上で使用することが可能となり、さらに、これら感光性レジストがヨードニウム開始剤及び/又は非イオン性トリフル酸発生剤を使用できることが見出された。かかるレジストが銅及び銅合金表面上に、残留レジストが出現することなく使用されうる。
【0008】さらに、本発明によって、好ましい酸、クエン酸が、現像剤液中の露光されない領域の強度に悪影響を与えることなく、レジストを剥離溶液中でさらに可溶化させることが見出された。
【0009】さらに特異的には、本発明は以下の成分、すなわち、酸触媒作用により反応する基を含むフィルム形成性反応性ポリマー;フィルム形成性反応性ポリマーの酸触媒作用を生成するように、放射光に露光することで、酸を発生するヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤;及び多官能基性有機カルボン酸と、を含む陽極性の感光性レジストに関連している。
【0010】加えて、本発明は前記組成物を銅及び銅合金の基体上で使用することに関する。
【0011】本発明は以下の成分を含むポジ型の感光性レジスト組成物に関連している、すなわち、酸触媒作用により反応する基を含むフィルム形成性反応性ポリマー及び放射光に露光ことにより、酸を発生する開始剤、それによってフィルム形成性反応性ポリマーの酸触媒作用を生成する。該開始剤としては、ヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤が用いられる。本発明において、開始剤とは、ヨードニウム開始剤及び/又はフォトアシッド発生剤を示す。該フォトレジスト組成物への、蓚酸及び好ましくはクエン酸の如き多官能基カルボン酸の添加は、銅含有表面上の露光領域における現像されえないレジストの形成を回避し、塩基性現像剤水溶液中でのレジストの水溶性を向上させることが見出された。多官能基とは、用いられる酸が2以上のカルボン酸基を含むことと解釈される。
【0012】酸感受性物質及びそれに開始剤とクエン酸が配合されて、好適なフィルム形成性反応性ポリマーとなりうる。本発明の実施に有用な酸感受性物質には、例えば、エポキシ類、ポリ(t−ブチルメタクリレート)、ポリ(t−ブトキシカルボニルオキシスチレン)、ポリ(フタルデヒド)、ビスフェノールAとt−ジオールのカルボニルオキシ誘導体との縮合ポリマー、前記のコポリマー及びターポリマー、及びビスフェノールAのビス(t−ブトキシカルボニル)誘導体が含まれる。
【0013】好ましくは、フィルム形成反応性ポリマーは、以下の重合可能な単位を含んでいる:第一のモノマーは、ポリマー主鎖に酸感受性側鎖を付与するものであり、第一のモノマーは、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート及びこれらの組み合わせからなる群から選択される;第二のモノマーは、アルキルメタクリレート類、アルキルアクリレート類及びこれらの組み合わせからなる群から選択される;第三のモノマーは、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【0014】好ましいフィルム形成反応性ポリマーの具体例としては、エチルアクリレート/メチルメタクリレート/t−ブチルアクリレート/アクリル酸のテトラポリマー、t−ブチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸のターポリマー等が挙げられる。
【0015】前記のタイプの酸感受性ポリマーは、当業者にとって周知であろうし、公知の技術を使用して容易に製造されよう。例えば、メタクリレート及びアクリレートのホモポリマー及びコポリマーは、フリーラジカル溶液重合によって合成される。重合溶媒の選択は、モノマーの溶解性、開始剤及び形成されるポリマーの性質、沸点及びコスト等のファクターによって左右される。種々のアゾ及び過酸化物の開始剤が、重合を開始させるために使用されうる。モノマーの選択は、所望のポリマーの性質に依存する。典型的な合成においては、反応器には、溶媒(例えば、テトラヒドロフラン及びメチルエチルケトン)と、さらに、形成されるポリマーが100%の重合率であると仮定して、最終濃度が10〜50%(重量比)になるように、所定のモノマーが注入される。開始剤は、0.05%〜1.0%(対モノマー比)であり、所望の分子量に依存する。該システムにおいては、酸素を除去するために窒素が散布される。重合反応は、典型的には、60〜80℃で10〜24時間行われる。ポリマーは、貧溶媒(炭化水素又は水)中で沈澱させることによって単離され、収集され、減圧下で温度を上昇させることによって乾燥される。本発明のフォトレジスト組成物のポリマー成分は、一般的には、フォトレジスト組成物の全重量を基準にして、約99〜80重量%存在する。
【0016】本発明において有用なフォトアシッド発生剤又は開始剤は、光放射に露光されるとトリフル酸を生成する化合物、又は強酸を生成するヨードニウム化合物である。好ましいフォトアシッド発生剤又は開始剤は、トリフル酸発生剤又は置換された及び無置換のジアリールヨードニウム塩である。
【0017】トリフル酸を発生する化合物は、ジフェニルヨードニウムトリフレート及びジ(t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフレート等のヨードニウム塩;及びフタルイミドトリフレート等の非イオン性化合物を含む。
【0018】本発明に従って用いられる芳香族ヨードニウム塩類は、下記一般式で表される化合物を含む:【0019】
【化1】

【0020】式中、Ar1 及びAr2 は炭素原子4〜20を有する芳香族基を示し、好ましくは、フェニル、ナフチル及びフラニル基から選択される。
【0021】Q- は、任意のアニオンであり、好ましくは、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート、トリフルオロメタンスルホネート又はトリフルオロアセテートからなる群から選択される。
【0022】有用なヨードニウム塩類のなかでも、特に次に示すものが好ましい:ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネートジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート4−トリフルオロメチルフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレートジトリルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートジ(4−メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートジ(t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートジ(t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート(4−メチルフェニル)フェニルヨードニウムテトラフルオロボレートジ−(2,4−ジメチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートジ(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート2,2’−ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート。
【0023】フォトアシッド発生剤又は開始剤は、一般的に、フォトレジスト組成物の重量を基準として、約1〜20重量%の範囲で存在する。
【0024】レジストは、また、典型的には、特有の染料によって、所望の波長に増感される。例えば、レジストが可視スペクトルに対して増感されることが所望の場合、本発明の出願人が出願した「フォトアシッド発生組成物及びその増感剤」と題された米国特許第5,055,439号(1991年10月8日発行)に記載されているような増感成分が組み入れられうる。例えば、このような酸発生剤を可視アルゴンレーザー波長(約488〜514nm)に対して増感するケースにおいて、好ましい増感剤は、1,8−ジメトキシ−9,10−ビス(フェニルエチニル)アントラセンである。
【0025】本発明に従えば、クエン酸はフォトレジスト組成物中に使用され、現像されえないレジストを完全に取り除かないまでも、それを実質的に減少させ、腐食性の又は塩基性の水溶液中でレジストの剥離性を向上させる。
【0026】酸は、典型的には、レジスト組成物中の固体の重量を基準として、約0.1〜約5重量%、好ましくは約1〜約3重量%の量で存在する。
【0027】成分の典型的な膜厚は、約3〜約50milであり、さらに典型的には約5〜約15milである(乾燥時)。
【0028】本発明の請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物は、酸触媒作用により反応する基を含むフィルム形成反応性ポリマーと、フィルム形成反応性ポリマーの酸触媒作用を生成するための、放射光に露光されることによって酸を発生するヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤と、多官能基有機カルボン酸と、を含有することを特徴とする。
【0029】請求項2記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記酸の含有量が、約0.1〜約5重量%であることを特徴とする。
【0030】請求項3記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記酸の含有量が、約1〜約3重量%であることを特徴とする。
【0031】請求項4記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記ポリマーの含有量が、レジストの固形分の約99〜約80重量%であり、前記開始剤の含有量が、約1〜約20重量%であることを特徴とする。
【0032】請求項5記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記開始剤がヨードニウム塩であることを特徴とする。
【0033】請求項6記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記開始剤が放射光の露光下で、トリフル酸を生成することを特徴とする。
【0034】請求項7記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記開始剤が、ジフェニルヨードニウムトリフレート;ジ(t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフレート;フタルイミドトリフルレート及びこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする。
【0035】請求項8記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、さらに、増感剤を含有することを特徴とする。
【0036】請求項9記載の発明は、請求項8記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記増感剤が、1,8−ジメトキシ−9,10−ビス(フェニルエチニル)アントラセンであることを特徴とする。
【0037】請求項10記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記フィルム形成反応性ポリマーが、以下の重合可能な単位を含むことを特徴とする:第一のモノマーは、ポリマー主鎖に酸感受性側鎖として寄与するものであり、第一のモノマーは、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート及びこれらの組み合わせからなる群から選択される;第二のモノマーは、アルキルメタクリレート類、アルキルアクリレート類及びこれらの組み合わせからなる群から選択される;第三のモノマーは、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【0038】請求項11記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記フィルム形成反応性ポリマーが、エチルアクリレート/メチルメタクリレート/t−ブチルアクリレート/アクリル酸のテトラポリマーであることを特徴とする。
【0039】請求項12記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記フィルム形成反応性ポリマーが、t−ブチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸のターポリマーであることを特徴とする。
【0040】請求項13記載の発明は、銅含有層のパターン形成方法であって、酸触媒作用により反応する基を含むフィルム形成反応性ポリマーと、フィルム形成反応性ポリマーの酸触媒作用を生成するための、放射光に露光されることによって酸を発生するヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤と、多官能基有機カルボン酸と、を含有することを特徴とする前記ポジ型感光性レジスト組成物で銅含有層を被覆すること、該レジスト組成物の選択された領域を放射光で露光すること、溶媒中で、露光された領域を溶解することによって該組成物を現像すること、それによって、銅含有層の領域を露光すること、露光されている銅含有層の領域ををエッチングすること、及びその後、非露光感光性レジストを剥離によって除去すること、を含むことを特徴とする。
【0041】請求項14記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記層上のポジ型感光性レジスト組成物の膜厚が、乾燥時において約5〜約15milであることを特徴とする。
【0042】請求項15記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記剥離が、塩基性水溶液を用いて行われることを特徴とする。
【0043】請求項16記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記酸の含有量が約0.1〜約5重量%であることを特徴とする。
【0044】請求項17記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記酸の含有量が約1〜約3重量%であることを特徴とする。
【0045】請求項18記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記ポリマーの含有量が、レジストの固形分の約99〜約80重量%であり、前記開始剤の含有量が、約1〜約20重量%であることを特徴とする。
【0046】請求項19記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記開始剤がヨードニウム塩であることを特徴とする。
【0047】請求項20記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記開始剤が放射光の露光下で、トリフル酸を生成することを特徴とする。
【0048】請求項21記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記光開始剤が、ジフェニルヨードニウムトリフレート;ジ(t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフレート;フタルイミドトリフレート及びこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする。
【0049】請求項22記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、さらに、増感剤を含有することを特徴とする。
【0050】請求項23記載の発明は、請求項22記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記増感剤が、1,8−ジメトキシ 9,10−ビス(フェニルエチル)アントラセンであることを特徴とする。
【0051】請求項24記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記フィルム形成反応性ポリマーが、以下の重合可能な単位を含むことを特徴とする:第一のモノマーは、ポリマー主鎖に酸感受性側鎖を付与するものであり、第一のモノマーは、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート及びこれらの組み合わせからなる群から選択される;第二のモノマーは、アルキルメタクリレート類、アルキルアクリレート類及びこれらの組み合わせからなる群から選択される;第三のモノマーは、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。
【0052】請求項25記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記フィルム形成反応性ポリマーが、エチルアクリレート/メチルメタクリレート/t−ブチルアクリレート/アクリル酸のテトラポリマーであることを特徴とする。
【0053】請求項26記載の発明は、請求項13記載の銅含有層のパターン形成方法であって、前記フィルム形成反応性ポリマーが、t−ブチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸のターポリマーであることを特徴とする。
【0054】請求項27記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記酸がクエン酸であることを特徴とする。
【0055】請求項28記載の発明は、請求項1記載のポジ型感光性レジスト組成物であって、前記酸が蓚酸であることを特徴とする。
【0056】以下の実施例は、限定されないが、本発明を詳細に記載しようとするものである。
【0057】
【実施例】
実施例1約100重量部のフォトターポリマー(t−ブチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸)が固体20%となるよう、シクロヘキサノン及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)の50/50混合物中に溶解された。該組成物中に、約10重量部のジ(t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフル酸;約3重量部の8−ジメトキシ−9,10−ビス(フェニルエチニル)アントラセン及び約2重量部のクエン酸が添加された。該組成物は、その後、銅クラッドエポキシ−ガラス繊維被覆物上に乾燥時の膜厚約8μmになるよう塗布した。
【0058】レジストの選択された領域は、その後、汎用の水銀ランプを用いて20mJ/cm2 で画像に関して露光された。該レジストは、その後、93℃で約25分間焼成され、100°Fの0.8%炭酸ナトリウム中で約2分間現像された。それから、露光された銅は、120°Fの塩化第二銅中でエッチングされた。残留している露光されない感光性レジストは、その後、3%の水酸化ナトリウム中で剥離された。
【0059】実施例2約100重量部のフォトターポリマー(t−ブチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸)が20%固体20%となるよう、シクロヘキサノン及びプロピレングリコールモノメチルエーテル酢酸(PGMEA)の50/50混合物中に溶解された。該組成物中に、約10重量部のジ(t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフル酸;約3重量部の8−ジメトキシ−9,10−ビス(フェニルエチニル)アントラセン及び約0.5重量部の蓚酸が添加された。該組成物は、その後、銅クラッドエポキシ−ガラス繊維被覆物上に乾燥時の膜厚約8μmになるよう塗布した。
【0060】レジストの選択された領域は、その後、汎用の水銀ランプを用いて20mJ/cm2 で画像に関して露光された。該レジストは、その後、110℃で約5分間焼成され、100°Fの0.8%炭酸ナトリウム中で約2分間現像された。それから、露光された銅は、120°Fの塩化第二銅中でエッチングされた。残留している露光されない感光性レジストは、その後、3%の水酸化ナトリウム中で剥離された。
【0061】
【発明の効果】本発明のポジ型感光性レジストは、前記構成としたため、銅表面の露光領域において現像されえないレジストを形成することがなく、剥離性も良好であるという優れた効果を示す。




 

 


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